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技术需求
技术交易

    技术需求名称:TEOS电子化学品开发

   
需求类型:产品   

 
求编号:Q(XD)2018012513

    所属行业:新材料

 终端产品及应用范围  

    合作方式:合作开发、技术服务

 投资金  


    技术需求详述:  

    
    需求内容:研发半导体产业用的TEOS电子化学品,采用选择氧化进行器件隔离时所使用的氮化硅薄膜也是用低压CVD法,
    利用氨和SiH4 或Si2H6反应面生成的,作为层间绝缘的SiO2薄膜是用SiH4和O2在400--450℃的温度下形成SiH4+O2-SiO2+2H2
    或是用Si(OC2H5)4(TEOS:tetra ethoxy silanc)和O2在750℃左右的高温下反应生成的,
    
后者即采用TEOS形成的SiO2膜具有台阶侧面部被覆性能好的优点。


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